Filtrazione ad alta purezza per una produzione di semiconduttori ultra-pulita
Descrizione
Filtro per gas ad alto flusso – Specificamente progettato per la filtrazione di gas di processo ad altissima purezza nella produzione di semiconduttori. Realizzato con precisione in acciaio inossidabile 316L, presenta un design a colonne multiple o a dischi sovrapposti per garantire una bassa resistenza ad alte portate, con una precisione di filtrazione che raggiunge 0,003 μm per soddisfare i requisiti di purezza ultra-elevata. La costruzione interamente in metallo lo rende una soluzione di filtrazione ideale per ambienti dinamici ad alta temperatura.
Ingegneria del prodotto
▶Struttura interamente in acciaio inossidabile 316L— Garantisce durata e resistenza alla corrosione.
▶Portata elevata, bassa resistenza— Ottimizzato per flussi elevati con minima perdita di pressione.
▶Efficienza di ritenzione delle particelle ultra-elevata— Eccellente per mantenere condizioni di ultrapurezza.
▶Resistente alle alte temperature, alla pressione e alla corrosione.— Adatto ad ambienti difficili.
▶Compatibile con vari gas di processo— Versatile per molteplici applicazioni industriali.
▶Ideale per la produzione, il collaudo e il confezionamento in camera bianca.— Ideale per l'utilizzo in ambienti controllati.
▶Test di integrità al 100%— Ogni filtro viene sottoposto a test di integrità completi per garantire la qualità.
▶Test di tenuta all'elio al 100%— Verificato tramite test di tenuta all'elio per garantire l'affidabilità in applicazioni critiche.
Scheda dati
Parametri tecnici
| Parametro | Specifiche |
|---|---|
| Materiale dell'elemento filtrante | acciaio inossidabile 316L sinterizzato a polvere |
| Materiale per alloggi | acciaio inossidabile 316L |
| Pressione massima in ingresso | 207 bar |
| Pressione differenziale massima di esercizio | 5,2 bar |
| Tasso di perdita di convalida dell'elio | 2 x 10⁻¹⁰ cc/min |
| Tasso di perdita nei test con elio | 1 x 10⁻¹⁰ cc/min |
| Trattamento superficiale | |
| Superficie | Ra < 1,6 μm |
| Superficie di integrazione | Ra < 0,2 μm |
| Temperatura massima di esercizio | |
| Gas inerte | 400-500℃ |
| Gas corrosivi e reattivi | 50℃ |
| Efficienza di ritenzione delle particelle | ≥99,9999999% (9LRV) a 30 slpm |
| Pulizia a valle | ≤0,03 particelle/litro a > 0,01 μm, 30 slpm |
| Dimensione di ritenzione delle particelle | ≥0,003 μm |
Misurare
Ecco il codice articolo che puoi ordinare e i dettagli sulle dimensioni:
| Modello di prodotto | Materiale dell'elemento filtrante | Precisione di filtrazione (μm) | Tipo di connessione |
|---|---|---|---|
| Z01B-00647 | Acciaio inossidabile 316L | 10~0,003 | 1/4” |
| Z01B-00648 | Acciaio inossidabile 316L | 10~0,003 | 1/2” |
| Z01B-00649 | Acciaio inossidabile 316L | 10~0,003 | 1/8” |
| Z01B-00650 | Acciaio inossidabile 316L | 10~0,003 | 1” |
| Personalizzabile | Acciaio inossidabile 316L | 10~0,003 | Secondo necessità |
Applicazioni tipiche
alcune applicazioni tipiche diFiltri di massa e multiuso ad alta purezzaEFiltri del flusso di gas presso la piattaforma di distribuzione del gas:
1. Produzione di semiconduttori
*Garantisce la fornitura di gas ultrapuro per i processi di fabbricazione, incisione e deposizione chimica da fase vapore (CVD) dei wafer.
*Mantiene un elevato grado di purezza nei sistemi di distribuzione di gas sfuso per azoto, argon e altri gas vettori.
2. Produzione farmaceutica
*Fornisce gas sterile e privo di particelle per ambienti di produzione critici.
*Supporta la filtrazione ad alta purezza per camere bianche e ambienti controllati al fine di mantenere l'integrità del prodotto.
3. Sistemi di gas da laboratorio
*Utilizzato in laboratorio per purificare i flussi di gas in apparecchiature analitiche come la gascromatografia e la spettrometria di massa.
*Garantisce gas ad elevata purezza per applicazioni di ricerca e collaudo, proteggendo strumenti sensibili.
4. Trasformazione di alimenti e bevande
*Filtra la CO₂ e altri gas utilizzati nella carbonazione, nel confezionamento e nello stoccaggio, garantendo la sicurezza e la qualità degli alimenti.
*Garantisce la fornitura di gas privo di contaminanti negli impianti di lavorazione, in particolare per le aziende di distribuzione di gas all'ingrosso.
5. Industria petrolifera e del gas
*Purifica i flussi di gas naturale mediante filtrazione a letto di gas, rimuovendo i contaminanti prima dello stoccaggio o del trasporto.
*Protegge le apparecchiature a valle rimuovendo particelle, umidità e impurità nei sistemi di flusso di gas ad alta pressione.
6. Produzione chimica
*Filtra i gas di servizio come azoto e argon utilizzati nella sintesi e nelle reazioni chimiche.
*Mantiene la purezza del gas per prevenire contaminazioni e incongruenze nelle reazioni.
7. Settore aerospaziale e della difesa
Fornisce gas ad elevata purezza negli ambienti di produzione e collaudo di materiali e componenti aerospaziali.
*Garantisce una purezza costante del gas in ambienti controllati per l'assemblaggio di aeromobili e attrezzature per la difesa.
8. Produzione di energia (Centrali elettriche)
*Filtra gas ad alta pressione per applicazioni di raffreddamento e di processo, in particolare in ambienti ad alta temperatura.
*Migliora l'efficienza e riduce l'usura delle apparecchiature prevenendo la contaminazione nei sistemi di raffreddamento e di flusso del gas.
Questi fI filtri sono essenziali in qualsiasi applicazione che richieda un flusso di gas pulito e costante, migliorando la protezione delle apparecchiature,
efficienza dei processi e qualità del prodotto finale in tutti i settori.
Inviaci il tuo messaggio:
